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1、真空等离子技术
这些等离子体在密闭的真空中产生(10 -3到10–9 bar)。与常压条件下相比，每个单位体积中的微粒数较少，这样就增加了粒子自由程长度，并相对减少了碰撞过程。因此，等离子体能量削弱的倾向减弱，可在空间内更广泛地传播。要制造真空腔体，需要使用功能强大的气泵。真空等离子技术不具备在线联动功能。
2、高压等离子技术
高压等离子体由特殊的气体放电管产生。这种等离子体对于表面处理来说并不重要。
3、电晕处理技术
电晕处理是一种使用高电压的物理工艺，主要用于薄膜处理。电晕预处理的缺点是，表面活化能力相对较低，而且处理之后的表面效果有时不够均匀。薄膜的反面也会被处理，有时这是工艺要求需要避免的。而且，经由电晕处理得到的表面张力无法维持长时间的稳定性，经过处理的产品往往只能存放有限的时间。
常压等离之处理技术:常压等离子是在大气压条件下产生的。常压等离子处理技术的成本低、性能好，因而作为真空等离子和电晕工艺的工艺替代和工艺提升，获得了广泛的应用。常压等离子技术的一大优势，在于其在线集成能力。作为一项工艺准则，这种技术能够顺利集成到现有的生产系统中。
